ウェーハの製造工程はそれほど複雑ではありません。 難しさは、ウェーハ上の半導体製品の高純度要件にあり、99.999999999％以上である必要があります。
シリコンウェーハを例にとると、シリコンは石英砂から抽出されます。 高温では、炭素と二酸化ケイ素の化学反応により、純度が約98％の純粋なシリコンしか得られません。これは、マイクロエレクトロニクスデバイスには十分な純度ではありません。 半導体材料の電気的特性は不純物の濃度に非常に敏感であるため、さらに精製する必要があります。
シリコンのさらなる精製プロセスでは、フォトリソグラフィーは非常に困難です。 ウェーハ製造工程において、フォトリソグラフィーは経験しなければならないステップです。
豊富なヒューズ、製品ラインは、新エネルギー車（パック、PDU、BDU、電気制御、モーター、MSD、低電圧配線ハーネス）、充電システムと充電モジュール、太陽光発電PVソーラージャンクションボックス、光起電性インバーター、UPSのすべての関連分野をカバーしています電源、5G通信電源、BS UKプラグ、電気家電コントロールパネル、照明駆動電源など。
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